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紅外金平面反射爐該系列應(yīng)用廣泛，從碳納米管生產(chǎn)系統(tǒng)到產(chǎn)線生系統(tǒng)；平面金反射爐可用于2~12英寸圓晶的退火爐和產(chǎn)品的烘干爐；
RTP快速退火爐已經(jīng)成為半導(dǎo)體、鐵電體以及鍍膜行業(yè)的重要退火技術(shù)。但是目前，只有大型的、昂貴的生產(chǎn)設(shè)備才能完成快速熱處理，這大大降低了研發(fā)工作的效率（尤其是小的...
高溫快速熱退火爐HT-RTA59HD高溫快速退火系統(tǒng)可以在SiC等高熔點的材料快速加熱到1800℃。
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